，设计采用的还是两纳米的套刻精度呢，设计指标是主要用于等效七纳米工艺的生产。”
“规划中的第二代EUV光刻机，才会使用一点五纳米的套刻精度，继而实现等效五纳米的工艺节点！”
听着王道林的话，徐申学道：“EUV光刻机这事，还是要加速研发，争取三年内弄个样机出来！”
王道林道：“样机的话，倒是有一定把握，但是要要距离完全实用化，恐怕会很久！”
“目前我们在EUV光刻机的技术推动上，还存在大量需要解决的技术难题。”
“其中光源部分还算是比较容易的，因为我们获得了不少国外的EUV光源的技术，甚至连整个光源系统的完整设计方案都有，但是即便是相对容易的光源部分，我们现在搞起来也非常麻烦。”
“虽然我们获得了完整的EUV光源设计方案，却是没有相应的设备，材料，加工工艺把它造出来。”
“如今我们在光源领域，是巧妇难为无米之炊，方案不少，但是全都是因为缺乏材料或零部件无法成行！”
“为此，我们已经被迫修改了六次设计方案，一次一次的降低技术要求，或者是通过其他办法来实现技术要求！”
王道林说到这里的时候，不由得叹了口气：“尽管这些年我们追赶的很快，但是他们几十年的技术积累，不是那么好追赶啊！”
徐申学道：“人家数十年积累，我们想要短时间内追赶自然是有难度的。”
“但是也不要灰心，要相信我们华夏人的脑子是足够聪明的，是可以完成诸多看似不可能完成的任务的！”
你可以不相信其他的，但是你可以相信科研系统的能力，但是这种话就不能说出来了。
所以徐申学道：“我们也只是用了几年时间而已，就把这个DUV浸润式光刻机搞出来了，而EUV光刻机虽然更难，但是并不意味着搞不了！”
“要有信心！”
这个时候，王道林也是笑道：“徐董你说的对，这方面我还是着相了！”
“说到这个追赶的问题，因为我们在光源领域的基础比较差，目前实验室里能够实现的光源功
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